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氮化镓光波导的损耗特性分析与工艺优化 认领 引用
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作者 尹慧萍 李文迪 +4 位作者 冯萧萧 秦飞飞 施政 王永进 李欣 《中国光学（中英文）》 EI CAS CSCD 北大核心 2025年第3期477-486,共10页
本文利用基于光束传播方法的有限元仿真模型研究了氮化镓(GaN)平面光波导的传输损耗特性,并针对传统GaN波导损耗较大的问题提出了工艺优化方案。通过构建完整的传输损耗模型,系统分析了波导几何参数对传输特性的影响,重点研究了顶部刻... 本文利用基于光束传播方法的有限元仿真模型研究了氮化镓(GaN)平面光波导的传输损耗特性,并针对传统GaN波导损耗较大的问题提出了工艺优化方案。通过构建完整的传输损耗模型,系统分析了波导几何参数对传输特性的影响,重点研究了顶部刻蚀和背后减薄两种优化工艺的改善效果。研究结果表明,这两种工艺均可显著降低波导传输损耗。其中顶部刻蚀工艺和背后减薄工艺可将损耗从2.29 dB/mm分别降至0.19 dB/mm和0.24 dB/mm。此外,本文还量化分析了制造工艺引入的侧壁夹角和表面粗糙度等缺陷对传输损耗的影响,并通过参数优化确定了实现可见光单模传输的关键结构尺寸。本文研究成果为设计和制备低损耗GaN平面光波导提供了理论依据和工艺指导。 展开更多
关键词 氮化镓光波导 可见光通信 传输损耗 工艺优化 单模传输
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