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NO催化氧化用CeO2/SiO2复合氧化物研究 认领 引用 被引量：2
1
作者 王加俊 常仕英 +3 位作者 赵云昆 段耀宗 于飞 杨冬霞 《稀土》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期1-8,共8页
以正硅酸乙酯为硅源,Ce（NO3）3·6H2O为铈源,通过溶胶-凝胶一步法合成CeO2/SiO2纳米复合氧化物。通过N2-吸脱附、X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪、化学吸附仪等技术对复合氧化物的物相结构、形... 以正硅酸乙酯为硅源,Ce（NO3）3·6H2O为铈源,通过溶胶-凝胶一步法合成CeO2/SiO2纳米复合氧化物。通过N2-吸脱附、X射线衍射仪、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪、化学吸附仪等技术对复合氧化物的物相结构、形貌、尺寸、化学价态、氧化还原特性进行分析。结果表明,通过该合成方法可获得高分散、球状、孔隙发达的CeO2/SiO2复合氧化物;复合氧化物粒径在40 nm～70 nm,CeO2粒径尺寸在4 nm～6 nm之间;孔结构以中孔为主,优化了纯CeO2和纯SiO2的大孔结构;CeO2与SiO2间发生了显著的相互作用形成了化学键,有效提高了CeO2的氧化还原特性。 展开更多
关键词 CeO2/SiO2 复合氧化物 氧化还原性 NO氧化
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pH值对CeO2/SiO2纳米复合磨粒分散性的影响 认领 引用 被引量：3
2
作者 陈国美 周凌 +5 位作者 倪自丰 徐来军 杜春宽 陈凤 苏敏 赵永武 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2020年第5期45-50,共6页
以胶体SiO2溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳–核结构完整的CeO2/SiO2纳米复合磨粒。采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过粒径分布、Zeta电位分析,研究水相分散系中pH值对CeO2/SiO2复... 以胶体SiO2溶液作硅源,采用均相沉淀工艺制备壳–核结构完整的CeO2/SiO2纳米复合磨粒。采用X射线衍射仪和透射电子显微镜对复合磨粒样品进行物相组成分析和微观形貌观察;通过粒径分布、Zeta电位分析,研究水相分散系中pH值对CeO2/SiO2复合磨粒分散性的影响。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合磨粒为壳–核包覆结构完整的纳米微球,粒径约110 nm,内核为无定形SiO2,壳层为立方萤石型CeO2;CeO2/SiO2复合磨粒的等电位点pH值约为5,其值由SiO2等电位点向CeO2等电位点明显偏移。CeO2/SiO2复合磨粒在酸性水相介质中分散性差,容易出现严重的团聚现象;而在碱性环境下,CeO2/SiO2复合磨粒分散性良好。 展开更多
关键词 SiO2 CeO2 纳米复合磨粒 pH值 分散性
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Ni和Ce前驱体对Ni-CeO2/SiO2催化剂的甲烷部分氧化制合成气性能的影响 认领 引用
3
作者 赵芝莹 郑芳芳 +2 位作者 翁维正 黄传敬 万惠霖 《厦门大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2020年第4期483-491,共9页
以不同Ni和Ce的化合物为前驱体、商品SiO2为载体,采用浸渍法制备了一系列Ni/SiO2、CeO2/SiO2和Ni-CeO2/SiO2催化剂,对CeO2在SiO2载体上的分散情况进行了表征,在此基础上进一步探究了不同前驱体制备的CeO2/SiO2对Ni物种的稳定情况以及Ni-... 以不同Ni和Ce的化合物为前驱体、商品SiO2为载体,采用浸渍法制备了一系列Ni/SiO2、CeO2/SiO2和Ni-CeO2/SiO2催化剂,对CeO2在SiO2载体上的分散情况进行了表征,在此基础上进一步探究了不同前驱体制备的CeO2/SiO2对Ni物种的稳定情况以及Ni-CeO2/SiO2催化剂的甲烷部分氧化(POM)制合成气的反应性能.研究发现:以Ce(NO3)3或Ce(NO3)3添加柠檬酸制备的CeO2/SiO2催化剂的氢气程序升温还原(H2-TPR)谱图中均同时出现了表面CeO2和体相CeO2物种的还原峰,而以Ce(CH3 COO)3制备的CeO2/SiO2催化剂上则主要含表面CeO2物种.不同前驱体制备的1%Ni/SiO2(1%为质量分数,下同)催化剂的POM反应稳定性均较差.向1%Ni/SiO2中添加CeO2后,以硝酸盐或硝酸盐添加柠檬酸制备的1%Ni-10%CeO2/SiO2催化剂的POM反应稳定性均显著改善,且Ni物种的还原峰温均有所提高,说明相关催化剂上的CeO2与Ni物种之间存在较强的相互作用,可以较好地稳定催化剂上的Ni物种,防止其在反应条件下烧结.向以乙酸盐为前驱体制备的Ni/SiO2中添加CeO2后,1%Ni-10%CeO2/SiO2催化剂的POM反应稳定性有所下降,其原因可能是该催化剂上的CeO2与Ni物种之间的相互作用较弱,不利于稳定Ni物种. 展开更多
关键词 Ni-CeO2/SiO2 前驱体 甲烷部分氧化 合成气
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Ni/CeO2/SiO2催化剂上甲烷催化裂解制氢的研究 认领 引用
4
作者 张美丽 季生福 +3 位作者 赵平 谭月平 李成岳 刘辉 《石油化工》 EI CAS 北大核心 2004年第Z1期237-239,共3页
采用分步浸渍法制备了不同Ni和CeO2含量的Ni/CeO2/SiO2催化剂,考察了催化剂中CeO2的含量与甲烷裂解制氢反应性能的关系,并对催化剂的结构进行了表征.催化活性评价结果表明,CeO2质量分数大于5%后能显著提高甲烷的转化率和催化剂的稳定性.... 采用分步浸渍法制备了不同Ni和CeO2含量的Ni/CeO2/SiO2催化剂,考察了催化剂中CeO2的含量与甲烷裂解制氢反应性能的关系,并对催化剂的结构进行了表征.催化活性评价结果表明,CeO2质量分数大于5%后能显著提高甲烷的转化率和催化剂的稳定性.XRD结果表明,CeO2对活性组分Ni具有很好的分散作用. 展开更多
关键词 甲烷催化裂解 制氢 Ni/CeO2/SiO2催化剂 CeO2 XRD
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包覆结构CeO_2/SiO_2复合磨料的合成及其应用 认领 引用 被引量：6
5
作者 陈杨 隆仁伟 陈志刚 《中国有色金属学报》 EI CAS 北大核心 2010年第1期163-169,共7页
以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、... 以正硅酸乙酯水解所得的SiO2微球为内核,采用均匀沉淀法制备具有草莓状包覆结构的CeO2/SiO2复合粉体。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、X射线光电子能谱仪(XPS)、动态光散射仪和Zeta电位测定仪等手段,对所制备样品的物相结构、组成、形貌和粒径大小进行表征。将所制备的包覆结构CeO2/SiO2复合粉体用于硅晶片热氧化层的化学机械抛光,用原子力显微镜(AFM)观察抛光表面的微观形貌,测量表面粗糙度,并测量材料去除率。结果表明:所制备的CeO2/SiO2复合颗粒呈规则球形,平均粒径为150～200nm,CeO2纳米颗粒在SiO2内核表面包覆均匀。CeO2颗粒的包覆显著地改变复合颗粒表面的电动力学行为,CeO2/SiO2复合颗粒的等电点为6.2,且明显地偏向纯CeO2;CeO2外壳与SiO2内核之间形成Si—O—Ce键,两者产生化学键结合;抛光后的硅热氧化层表面在2μm×2μm范围内粗糙度为0.281nm,材料去除率达到454.6nm/min。 展开更多
关键词 CeO2/SiO2复合磨料 包覆 化学机械抛光
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共沉淀法和模板法制备均匀负载CeO_2/SiO_2的研究 认领 引用
6
作者 杨栋 文明芬 +2 位作者 宋崇立 陈靖 顾永万 《无机化学学报》 SCIE CAS 北大核心 2005年第11期1705-1709,共5页
XRD, Raman, TEM, and N2-adsorption were utilized to characterize CeO2/SiO2 prepared by coprecipi-tation and surfactant-assisted method. The results show that nanocrystalline CeO2 can be uniformly supported on the surf... XRD, Raman, TEM, and N2-adsorption were utilized to characterize CeO2/SiO2 prepared by coprecipi-tation and surfactant-assisted method. The results show that nanocrystalline CeO2 can be uniformly supported on the surface of SiO2 particles, when the molar ratio of Si4+/(Ce3++Si4+) is less than 35% in coprecipitation samples. At higher Si content, the surface of SiO2 can not be fully covered by CeO2. With surfactant (CTAB) added, the u-iformly supported structure can even exist when the molar ratio of Si4+/(Ce3++Si4+) is as high as 53%. It is because Ce and Si complexes can be well dispersed in precursor solution in present of CTAB. However, the uniformly supported structure can not be synthesised through surfactant-assisted approch for its hydrothermal threatment, which can easily lead to separate aggregation of nanocrystalline CeO2 and SiO2 particles. 展开更多
关键词 CeO2/SiO2 均匀负载 共沉淀法 模板法
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SiO_2-CeO_2复合氧化物的制备及抛光性能 认领 引用 被引量：15
7
作者 柴明霞 胡建东 +3 位作者 冯晓平 周雪珍 罗军明 李永绣 《无机化学学报》 SCIE CAS 北大核心 2007年第4期623-629,共7页
采用正硅酸乙酯溶胶-凝胶法制备纳米SiO2,并与氯化铈溶液混合,用氨水沉淀法制备了SiO2-CeO2复合氧化物。利用XRD、SEM等手段对其物相类型、外观形貌、颗粒大小、表面电位等物理性能进行了表征,测定了它们对3种光学玻璃的抛光速率。结果... 采用正硅酸乙酯溶胶-凝胶法制备纳米SiO2,并与氯化铈溶液混合,用氨水沉淀法制备了SiO2-CeO2复合氧化物。利用XRD、SEM等手段对其物相类型、外观形貌、颗粒大小、表面电位等物理性能进行了表征,测定了它们对3种光学玻璃的抛光速率。结果表明:合成复合氧化物具有立方萤石型结构,由Sherrer方程计算的晶粒DXRD(200)小于100nm甚至10nm。随着SiO2复配量的增加和煅烧温度的降低,晶粒度减小,比表面增大;激光粒度分析仪测定的中位粒径D50在2￣3μm之间,且随SiO2复配量的增加呈增大趋势,但随煅烧温度的变化在800℃时出现极小值,而此时的ζ电位的负值最大,对3种玻璃的抛光速率也最大。证明抛光速率与表面电位及相应的悬浮性、颗粒大小有直接关系。随着SiO2复配量的增加,复合氧化物的ζ电位负值及对3种玻璃的抛光速率均增大。因此,在CeO2中复配SiO2是提高抛光速率的有效方法,此时,最佳的煅烧温度为800℃。 展开更多
关键词 二氧化硅-氧化铈复合氧化物 制备 抛光
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除氟剂CeO_2/SiO_2的制备及其除氟性能研究 认领 引用 被引量：1
8
作者 王芳 潘美霞 +1 位作者 塔娜 姚红霞 《内蒙古石油化工》 CAS 2007年第9期20-22,共3页
以原硅酸四乙酯(TEOS)和硝酸铈(Ce(NO)3.6H2O)为原料,采用溶胶凝胶法制备出了除氟剂CeO2/SiO2。采用IR、XRD、BET等分析方法对所得样品进行了表征,并初步研究了该除氟剂的除氟性能。结果表明,经400℃焙烧的CeO2/SiO2除氟剂在室温,原水,... 以原硅酸四乙酯(TEOS)和硝酸铈(Ce(NO)3.6H2O)为原料,采用溶胶凝胶法制备出了除氟剂CeO2/SiO2。采用IR、XRD、BET等分析方法对所得样品进行了表征,并初步研究了该除氟剂的除氟性能。结果表明,经400℃焙烧的CeO2/SiO2除氟剂在室温,原水,固液比为1∶20,振荡时间为2h时,除氟效果好,除氟率达90%以上,已达到国家饮用水标准0.5mg/L^1mg/L。 展开更多
关键词 二氧化硅 溶胶凝胶法 除氟剂CeO2/SiO2 模拟含氟废水
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SiO_2/CeO_2复合磨粒的制备及在蓝宝石晶片抛光中的应用 认领 引用 被引量：14
9
作者 白林山 熊伟 +2 位作者 储向峰 董永平 张王兵 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1289-1295,共7页
采用均相沉淀法制备了SiO2/CeO2复合磨料,并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)等对样品的相组成和形貌进行了表征。将所制备的SiO2/CeO2复合磨料用于蓝宝石晶片的化学机械抛光,利用原子力显微镜... 采用均相沉淀法制备了SiO2/CeO2复合磨料,并利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)等对样品的相组成和形貌进行了表征。将所制备的SiO2/CeO2复合磨料用于蓝宝石晶片的化学机械抛光,利用原子力显微镜检测抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度。结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒呈球形,粒径在40-50nm;在相同条件下,经过复合磨料抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.32nm,材料去除速率为16.4nm/min,而SiO2抛光后的蓝宝石晶片表面粗糙度为0.92nm,材料去除速率为20.1nm/min。实验显示,复合磨料的材料去除速率略低于单一SiO2磨料,但它获得了较好的表面质量,基本满足蓝宝石作发光二极管(LED)衬底的工艺要求。 展开更多
关键词 蓝宝石晶片 化学机械抛光 表面粗糙度 SiO2/CeO2 复合磨料
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CeO_2@SiO_2微球吸附剂的制备及对氟离子的高效吸附 认领 引用 被引量：3
10
作者 王帆 韦悦周 +2 位作者 王开拓 王欣鹏 高锋 《广西大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2018年第6期2355-2363,共9页
为研究真空旋转蒸发技术制备CeO_2@SiO_2新型吸附剂对氟离子的吸附行为,使用多孔二氧化硅微球为载体,分别采用四水合硫酸铈、六水合硝酸亚铈和七水合氯化亚铈为铈源,采用BET、XRD和SEM-EDS等对合成材料进行性能表征,并通过静态吸附实验... 为研究真空旋转蒸发技术制备CeO_2@SiO_2新型吸附剂对氟离子的吸附行为,使用多孔二氧化硅微球为载体,分别采用四水合硫酸铈、六水合硝酸亚铈和七水合氯化亚铈为铈源,采用BET、XRD和SEM-EDS等对合成材料进行性能表征,并通过静态吸附实验分析了担载量、p H值、吸附时间、液固比和氟离子浓度对CeO_2@SiO_2吸附性能的影响。结果表明:以七水合氯化亚铈为铈源制备的CeO_2@SiO_2新型吸附剂对氟离子去除效果最佳,其最佳合成温度为75℃,二氧化硅微球添加量为4 g时,获得最佳担载量;该吸附过程均符合准二级动力学模型、颗粒内扩散模型和Freundlich等温模型;在p H=3、吸附时间1 h和液固比为0. 15 g/100mL的条件下,CeO_2@SiO_2新型吸附剂对氟离子获得较好的去除效果,在Freundlich模型中n=5. 14>2,该过程为优惠吸附。 展开更多
关键词 CeO2 SiO2 吸附 氟离子 动力学
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SiO_2/CeO_2混合磨料对微晶玻璃CMP效果的影响 认领 引用 被引量：8
11
作者 孙增标 刘玉岭 +2 位作者 刘效岩 闫宝华 张研 《半导体技术》 CAS 北大核心 2010年第1期72-74,共3页
在微晶玻璃表面的超精密加工中,抛光磨料是抛光液重要的组成部分,它不仅影响着微晶玻璃的去除速率,而且对表面的粗糙度有着重要的影响。把超大规模集成电路的CMP技术引入到微晶玻璃的抛光中,在分析SiO2/CeO2混合磨料对微晶玻璃表面作用... 在微晶玻璃表面的超精密加工中,抛光磨料是抛光液重要的组成部分,它不仅影响着微晶玻璃的去除速率,而且对表面的粗糙度有着重要的影响。把超大规模集成电路的CMP技术引入到微晶玻璃的抛光中,在分析SiO2/CeO2混合磨料对微晶玻璃表面作用原理的基础上,进行了大量的实验研究,结果表明,通过调节SiO2/CeO2的配比和优化相关工艺参数可以得到应用所需的粗糙度及在此粗糙度下最大的去除速率。 展开更多
关键词 化学机械抛光 SiO2/CeO2混合磨料 去除速率 表面粗糙度
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新型CeO_2-V_2O_5/TiO_2-SiO_2催化剂高效抗碱金属中毒性能 认领 引用 被引量：3
12
作者 鲍强 周昊 +3 位作者 刘建成 朱国栋 时伟 岑可法 《浙江大学学报（工学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期1855-1862,共8页
试验采用SiO2和CeO2对V2O5/TiO2催化剂进行改性并进行催化性能研究,找到了一种最佳比例的Ce10VTiSi0.3催化剂.结果表明,新型的Ce10VTiSi0.3催化剂可以使温度窗口扩大到200~400℃,转化率提高18.54%,具有优秀的抗碱金属中毒性能.改性催化... 试验采用SiO2和CeO2对V2O5/TiO2催化剂进行改性并进行催化性能研究,找到了一种最佳比例的Ce10VTiSi0.3催化剂.结果表明,新型的Ce10VTiSi0.3催化剂可以使温度窗口扩大到200~400℃,转化率提高18.54%,具有优秀的抗碱金属中毒性能.改性催化剂可以降低N2O的生成,提高N2的选择性,同时具有较好的抗SO2和抗H2O性能.通过N2-BET、Py-IR等技术手段对催化剂进行表征.结果表明,SiO2和CeO2的加入会使得催化剂的比表面积得到明显的提高,平均粒径下降,孔容积增多.利用吡啶吸附原位红外光谱法进行研究后发现,改性催化剂具有丰富的B酸和L酸,更有利于NH3在催化剂表面的吸附以及表面的氧化还原反应. 展开更多
关键词 选择性催化还原 SiO2 CeO2 抗碱金属中毒
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Ce含量对Ti/IrO2-SiO2-CeO2电极电催化性能的影响 认领 引用 被引量：4
13
作者 赵小云 王三反 +2 位作者 周键 邹信 张学敏 《有色金属工程》 CAS 北大核心 2019年第12期22-28,共7页
为降低析氧电位,改善电极表面形貌,制备电催化性能良好的Ti基IrSi电极,在煅烧温度为450℃条件下,采用热分解法制备了不同Ce含量的Ti/IrO2+SiO2+CeO2氧化物电极,采用SEM对电极的表观形貌进行表征,采用循环伏安曲线、析氧极化曲线及交流... 为降低析氧电位,改善电极表面形貌,制备电催化性能良好的Ti基IrSi电极,在煅烧温度为450℃条件下,采用热分解法制备了不同Ce含量的Ti/IrO2+SiO2+CeO2氧化物电极,采用SEM对电极的表观形貌进行表征,采用循环伏安曲线、析氧极化曲线及交流阻抗图谱对电极的电催化性能进行表征。结果表明,添加适量Ce可使晶粒分散均匀,裂纹数目增多,电极表面变得平坦、致密、均匀,同时析氧电位降低,孔隙率增加,电催化活性大大提高。但过量Ce又会对电极电催化性能产生不利影响,Ce含量达到10%时,裂纹数量最多且分布均匀,涂层形貌良好,析氧电位达到最低,为1.23V,电催化性能达到最佳。 展开更多
关键词 Ti/IrO2+SiO2+CeO2 热解 电化学 催化作用 空隙率 析氧反应
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双脉冲工作时间对Ni-W-P/CeO_2-SiO_2纳米复合材料电沉积的影响 认领 引用 被引量：1
14
作者 王绍华 王军丽 +1 位作者 徐瑞东 章俞之 《材料保护》 CAS 北大核心 2010年第3期34-37,共4页
通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层。在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电... 通过Ni,W,P与CeO2,SiO2纳米颗粒的双脉冲电沉积,在普通碳钢表面制备了Ni-W-P/CeO2-SiO2纳米复合材料沉积层。在正、反向脉冲占空比(10%,30%)和正、反向脉冲平均电流密度(15.0,1.5A/dm2)恒定下,研究了正、反向脉冲时间对纳米复合材料电沉积的影响。采用能谱、硬度测试和扫描电镜等方法,对纳米复合材料沉积层的化学组成、沉积速率、显微硬度和表面形貌进行了表征。结果表明:当正、反向脉冲时间分别控制在300ms和40ms时,Ni-W-P基质金属轮廓清晰,晶粒细小而均匀,CeO2和SiO2纳米颗粒在基质金属中均匀弥散分布;沉积层的化学组成(质量分数)为:70.89%Ni,9.89%W,8.59%P,7.35%CeO2,2.81%SiO2;沉积速率为45.1μm/h,显微硬度为706HV。 展开更多
关键词 双脉冲 Ni—W·P/CeO2-SiO2 纳米复合材料 电沉积 脉冲时间 沉积速率 显微硬度
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新型核-壳结构PS/CeO_2和PS/SiO_2复合磨料的制备及其抛光性能 认领 引用 被引量：3
15
作者 陈杨 隆仁伟 +1 位作者 陈志刚 陈爱莲 《中国有色金属学报》 EI CAS 北大核心 2010年第8期1612-1617,共6页
以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征。将... 以聚苯乙烯(PS)微球为内核,采用液相法制备具有核壳结构的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒。利用X射线衍射仪、透射电子显微镜、场发射扫描电子显微镜、傅里叶转换红外光谱仪和热重分析仪等对所制备样品的物相结构、形貌和粒径等进行表征。将所制备的复合磨料用于硅晶片表面二氧化硅介质层的化学机械抛光,采用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌,并测量表面粗糙度。结果表明:所制备的PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒呈近球形,粒径为250～300nm,且具有核壳包覆结构,包覆层的厚度为10～20nm;硅晶片表面二氧化硅介质层经PS/CeO2和PS/SiO2复合颗粒抛光后,表面无划痕,且非常平整,在5μm×5μm范围内,粗糙度均方根值(RMS)分别为0.238nm和0.254nm。 展开更多
关键词 PS/CeO2复合磨料 PS/SiO2复合磨料 核-壳结构 包覆 化学机械抛光
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Pt-Pd/CeO2-SiO2催化剂的稳定性研究 认领 引用
16
作者 常仕英 于飞 +2 位作者 杨冬霞 王加俊 易健宏 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2019年第3期54-59,共6页
以浸渍法制备Pt-Pd/CeO2-SiO2催化剂(Pt-Pd/CS),与Pt-Pd/Al2O3催化剂进行耐硫和耐热稳定性对比。用比表面(BET)、X射线衍射(XRD)和高分辨率透射电镜(HRTEM)等表征催化剂,用模拟气小样方法(SGB)评价催化活性。结果表明,Pt-Pd/CS具有比Pt-... 以浸渍法制备Pt-Pd/CeO2-SiO2催化剂(Pt-Pd/CS),与Pt-Pd/Al2O3催化剂进行耐硫和耐热稳定性对比。用比表面(BET)、X射线衍射(XRD)和高分辨率透射电镜(HRTEM)等表征催化剂,用模拟气小样方法(SGB)评价催化活性。结果表明,Pt-Pd/CS具有比Pt-Pd/Al2O3催化剂更好的热稳定性和耐硫性。780℃,10 h老化后,Pt-Pd/Al2O3性能轻微下降,而Pt-Pd/CS催化剂中CeO2与贵金属的相互作用增强,NO氧化活性提高。在SO2气氛中,两种催化剂的低温活性均显劣化,但在350℃以上时,Pt-Pd/CS的活性反而提高;Pt-Pd/Al2O3对SO2的饱和吸附时间和吸附量分别为Pt-Pd/CS的3倍以上,因此活性衰减迅速。 展开更多
关键词 催化化学 NO氧化 Pt-Pd/CeO2-SiO2 热稳定性 耐硫性
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添加剂对SiO_2-CeO_2复合抛光粉粒度的影响 认领 引用 被引量：5
17
作者 柴明霞 《青海大学学报（自然科学版）》 2011年第3期29-32,共4页
在制备SiO2-CeO2复合抛光粉的过程中,添加过氧化氢和不同种类的分散剂,测定其对粒度的影响。结果表明:加入过氧化氢增大了粒子的团聚,复合氧化物的粒度相对较大。在CeO2和SiO2复合时,加入分散剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、十二烷基硫... 在制备SiO2-CeO2复合抛光粉的过程中,添加过氧化氢和不同种类的分散剂,测定其对粒度的影响。结果表明:加入过氧化氢增大了粒子的团聚,复合氧化物的粒度相对较大。在CeO2和SiO2复合时,加入分散剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、十二烷基硫酸钠(SDS)和聚乙二醇进行比较,加入CTAB,粉体粒度较小,复合物的浆料悬浮性也较好。 展开更多
关键词 二氧化硅-氧化铈 复合氧化物 添加剂 粒度
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SiO_2-CeO_2复合氧化物对硅片的抛光性能评价 认领 引用
18
作者 柴明霞 周雪珍 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期365-370,共6页
用合成的S iO2-CeO2复合氧化物对单晶硅片进行抛光,测定其抛光速率与制备条件及浆料配制条件之间的关系。结果表明:经800℃煅烧后制得的硅铈摩尔比nS iO2∶nCeO2为2∶1的复合氧化物对硅片具有最大的抛蚀速率。与此同时,选用三乙醇胺和... 用合成的S iO2-CeO2复合氧化物对单晶硅片进行抛光,测定其抛光速率与制备条件及浆料配制条件之间的关系。结果表明:经800℃煅烧后制得的硅铈摩尔比nS iO2∶nCeO2为2∶1的复合氧化物对硅片具有最大的抛蚀速率。与此同时,选用三乙醇胺和六偏磷酸钠分别作为浆料的pH调节剂和分散剂可以获得理想的浆料分散性和悬浮稳定性。确定了抛光浆料的最佳pH值和固含量分别为11和4%。 展开更多
关键词 二氧化硅-氧化铈复合氧化物 硅片 抛光 稀土
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Ag/SiO_2-ZnO-CeO_2催化剂上甘油与苯胺液固相高效催化合成3-甲基吲哚 认领 引用
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作者 石雷 杜秀芳 +2 位作者 任丽婷 郝文文 赵丹 《辽宁师范大学学报（自然科学版）》 CAS 2018年第3期345-352,共8页
3-甲基吲哚作为一种应用极广的氮杂环化合物,可以合成许多在工、农、医等领域有重要用途的化学品.以生物柴油副产物甘油为主要原料与苯胺反应合成3-甲基吲哚是目前最理想的合成方法,不仅价格低廉,而且绿色环保.以Ag/SiO_2为催化剂,向其... 3-甲基吲哚作为一种应用极广的氮杂环化合物,可以合成许多在工、农、医等领域有重要用途的化学品.以生物柴油副产物甘油为主要原料与苯胺反应合成3-甲基吲哚是目前最理想的合成方法,不仅价格低廉,而且绿色环保.以Ag/SiO_2为催化剂,向其添加ZnO及CeO_2助剂,在不锈钢高压反应釜中通过液固相反应一锅高效催化合成3-甲基吲哚,通过H2程序升温还原、X射线粉末衍射、透射电镜、NH3程序升温脱附和热重等手段对催化剂进行表征.结果表明:加入ZnO助剂能增强活性组分银与SiO_2载体的相互作用,有效提高银在SiO_2-ZnO表面的分散度,并抑制银粒子在反应过程中的烧结.CeO_2助剂的加入能在一定程度上减弱催化剂的中强酸酸性,从而抑制反应过程中积碳的形成.当ZnO和CeO_2助剂含量分别为1.00和0.04mmol/g时,Ag/SiO_2-ZnO-CeO_2催化剂表现出很高的催化性能,反应16h,3-甲基吲哚的收率可以达到70%.该催化剂重复使用5次,其目标产物收率尚能达到63%. 展开更多
关键词 3-甲基吲哚 Ag/SiO2-ZnO-CeO2催化剂 甘油 苯胺 液固相催化反应
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CeO_2/SiO_2吸附剂的制备及其对碘酸根的吸附 认领 引用 被引量：4
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作者 林锦 吴艳 韦悦周 《核化学与放射化学》 CAS CSCD 北大核心 2017年第6期459-466,共8页
以多孔二氧化硅为载体、六水合硝酸铈为原料,采用真空灌注法制备了CeO_2/SiO_2吸附剂,并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)等方法对其进行表征。同时,通过静态和动态吸附实验探究了CeO_2/SiO_2对碘酸根的吸附和脱附行为... 以多孔二氧化硅为载体、六水合硝酸铈为原料,采用真空灌注法制备了CeO_2/SiO_2吸附剂,并利用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、红外光谱(IR)等方法对其进行表征。同时,通过静态和动态吸附实验探究了CeO_2/SiO_2对碘酸根的吸附和脱附行为,考察了pH、反应时间、碘酸根浓度以及共存阴离子等因素对CeO_2/SiO_2吸附性能的影响。研究结果表明:CeO_2/SiO_2在较广的pH值范围内对碘酸根有较高的吸附率,吸附过程符合准二级动力学模型以及Langmuir和Redlich-Peterson模型;共存阴离子对吸附的影响大小为NO_3^-<SO_42-<HCO_3^-<H_2PO_4^-≈PO_43-;动态吸附实验的柱利用率高达90.96%,且穿透曲线符合Thomas模型;通过IR谱图分析推测CeO_2/SiO_2的吸附机理为阴离子交换。 展开更多
关键词 CeO2 SiO2 吸附 碘酸根
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