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不同Hf含量IrO_2-HfO_2涂层电极材料的电容性能 认领 引用
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作者 刘雪华 张静 +5 位作者 王欣 邹琦 陈永毅 朱君秋 颜琦 唐电 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期155-160,共6页
采用热分解法制备Ti/IrO2-HfO2二元氧化物涂层电极。通过X射线衍射(XRD)研究了不同Ir/Hf配比涂层的结构特征;采用循环伏安(CV)方法分析了不同电极涂层的比电容、"内/外活性"及电极稳定性,并初步讨论了电极稳定性与涂层结构间... 采用热分解法制备Ti/IrO2-HfO2二元氧化物涂层电极。通过X射线衍射(XRD)研究了不同Ir/Hf配比涂层的结构特征;采用循环伏安(CV)方法分析了不同电极涂层的比电容、"内/外活性"及电极稳定性,并初步讨论了电极稳定性与涂层结构间的关系。结果表明,添加Hf可改善涂层结构、提高比电容及电极稳定性、且当涂层中HfO2达到50 mol%时电极活性最高、稳定性最佳。 展开更多
关键词 IrO2-HfO2 电极 电容 涂层
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