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ZnO-SnO_2透明导电膜的低温制备及性质 认领 引用 被引量：13
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作者 黄树来 马瑾 +3 位作者 刘晓梅 马洪磊 孙征 张德恒 《Journal of Semiconductors》 CAS 北大核心 2004年第1期56-59,共4页
在室温下 ,采用射频磁控溅射法在 70 5 9玻璃衬底上制备出 Zn O- Sn O2 透明导电薄膜 .制备的薄膜为非晶结构 ,并且薄膜的电阻率强烈地依赖于溅射气体中的氧分压 .薄膜的最小电阻率为 7.2 7× 10 - 3Ω· cm,载流子浓度为4 .3&#... 在室温下 ,采用射频磁控溅射法在 70 5 9玻璃衬底上制备出 Zn O- Sn O2 透明导电薄膜 .制备的薄膜为非晶结构 ,并且薄膜的电阻率强烈地依赖于溅射气体中的氧分压 .薄膜的最小电阻率为 7.2 7× 10 - 3Ω· cm,载流子浓度为4 .3× 10 1 9cm- 3、霍尔迁移率为 2 0 .5 cm2 / (V· s) ,在可见光范围内的平均透过率达到了 90 % . 展开更多
关键词 透明导电膜 ZnO—SnO2 射频磁控溅射
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